摘要： 針對(duì)超精密加工后單晶金剛石襯底表面損傷層具有超薄(試驗(yàn)僅幾個(gè)納米)且透明的特點(diǎn)，提出一種基于光譜橢偏的測(cè)量和表征方法，實(shí)現(xiàn)襯底損傷層厚度和折射率的無損測(cè)量和表征。首先，建立“粗糙層+純基底”兩層光學(xué)模型，利用離散型穆勒矩陣橢偏測(cè)量模式測(cè)量加工前籽晶襯底，分析測(cè)量數(shù)據(jù)獲得其光學(xué)常數(shù)，作為后續(xù)加工損傷層橢偏數(shù)值反演的基礎(chǔ)，以避免損傷層與襯底間橢偏參數(shù)耦合；然后，根據(jù)襯底加工后的特征... （共11頁）