摘要： 研究了Zr和Cr元素摻雜對Cu互連薄膜的結構及性能的影響。利用直流磁控濺射技術在SiO₂/Si襯底上沉積了Cu、Cu(Zr)、Cu(Cr)、Cu(ZrCr)4種薄膜，并在溫度400～800℃下對薄膜真空退火1h。通過SEM、XRD和四探針法對不同薄膜的表面形貌、微觀結構與電學性能進行測試分析。結果表明，Zr或Cr單元素摻雜均能在一定程度上提高Cu互連薄膜的熱穩(wěn)定性。Zr或Cr... （共11頁）